METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING TOOL INDUCED SHIFT USING A SUB-SAMPLING SCHEME
The present invention may include measuring tool induced shift (TIS) on at least one wafer of a lot of wafers via an omniscient sampling process, randomly generating a plurality of sub-sampling schemes, each of the set of randomly generated sub-sampling schemes having the same number of sampled fiel...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The present invention may include measuring tool induced shift (TIS) on at least one wafer of a lot of wafers via an omniscient sampling process, randomly generating a plurality of sub-sampling schemes, each of the set of randomly generated sub-sampling schemes having the same number of sampled fields, measuring TIS at each location of each of the randomly generated sub-sampling schemes, approximating a set of TIS values for each of the randomly generated sub-sampling schemes utilizing the TIS measurements from each of the randomly generated sub-sampling schemes, wherein each set of TIS values for each of the randomly generated sub-sampling schemes is calculated utilizing an interpolation process configured to approximate a TIS value for each location not included in a randomly generated sub-sampling scheme, and determining a selected sub-sampling scheme by comparing each of the calculated sets of TIS values to the measured TIS of the omniscient sampling process.
La présente invention se rapporte à un procédé qui peut consister : à mesurer un décalage induit par un outil (TIS, Tool Induced Shift) sur au moins l'une des tranches d'un lot de tranches via un processus d'échantillonnage omniscient ; à générer aléatoirement une pluralité de schémas de sous-échantillonnage, chacun de l'ensemble de schémas de sous-échantillonnage générés aléatoirement ayant le même nombre de zones échantillonnées ; à mesurer un TIS à chaque position de chacun des schémas de sous-échantillonnage générés aléatoirement ; à approximer un ensemble de valeurs TIS pour chacun des schémas de sous-échantillonnage générés aléatoirement en utilisant les mesures TIS de chacun des schémas de sous-échantillonnage générés aléatoirement, chaque ensemble de valeurs TIS pour chacun des schémas de sous-échantillonnage générés aléatoirement étant calculé en réalisant une procédure d'interpolation configurée de façon à approximer une valeur TIS pour chaque position qui n'est pas incluse dans un schéma de sous-échantillonnage généré aléatoirement ; et à déterminer un schéma de sous-échantillonnage sélectionné en comparant chacun des ensembles calculés de valeurs TIS au TIS mesuré du processus d'échantillonnage omniscient. |
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