SYSTEM AND METHOD FOR ANALYZING PORE SIZES OF SUBSTRATES
A system for analyzing the pore size of a substrate or device containing substrates adapted to separate fluids and has at least two surfaces, a first and a second surface, which are isolated from, one another and wherein the substrate or devices containing the substrates have an exit for fluids pass...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A system for analyzing the pore size of a substrate or device containing substrates adapted to separate fluids and has at least two surfaces, a first and a second surface, which are isolated from, one another and wherein the substrate or devices containing the substrates have an exit for fluids passing through the substrate, comprising: a) a particle generator (15) capable of generating particles of a controlled size; b) a system (18) for creating a pressure differential between the first and the second surface of the substrate; c) a light source (24) spaced front the exit of the substrate or device containing the substrate adapted for illuminating particles exiting the exit of the substrate or device containing the substrate; d) a closed flow path from the particle generator to the first surface of the substrate; e) a substrate or device holder (11) adapted for holding the substrate or device in the proper location in the system; and f) one or more reference linages. Also described are methods of utilizing the system to identify pore sizes of substrates.
L'invention porte sur un système qui permet d'analyser la taille de pores d'un substrat ou d'un dispositif contenant des substrats, qui est conçu pour séparer des fluides et qui présente au moins deux surfaces, une première et une seconde surface, qui sont isolées l'une de l'autre, le substrat ou les dispositifs contenant les substrats ayant une sortie pour des fluides traversant le substrat, ledit système comportant : a) un générateur de particules (15) pouvant générer des particules d'une taille régulée ; b) un système (18) pour créer un différentiel de pression entre les première et seconde surfaces du substrat ; c) une source de lumière (24) espacée en avant de la sortie du substrat ou du dispositif contenant le substrat, conçue pour éclairer des particules sortant de la sortie du substrat ou du dispositif contenant le substrat ; d) une trajectoire d'écoulement fermée du générateur de particules vers la première surface du substrat ; e) un support de dispositif ou de substrat (11) conçu pour porter le substrat ou le dispositif à l'emplacement correct dans le système ; f) une ou plusieurs formations de lignes de référence. L'invention porte également sur des procédés d'utilisation du système pour identifier des tailles de pores de substrats. |
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