PROCESSED DRI MATERIAL

A processed DRI material having an average surface roughness (Ra) of less than 1.5 µm is disclosed. A method and system for making processed DRI are also disclosed. One embodiment of the method and system may include assembling a rotatable chamber having an internal screen capable of supporting DRI...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEVANDUSKI, GARY M, RAMJEWAN, ANTHONY, BARTHOLOMEW, KYLE, HENDRICKSON, DAVID W, MANNING, CHRISTOPHER P
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A processed DRI material having an average surface roughness (Ra) of less than 1.5 µm is disclosed. A method and system for making processed DRI are also disclosed. One embodiment of the method and system may include assembling a rotatable chamber having an internal screen capable of supporting DRI during tumbling, with at least one opening in the chamber to permit fines to exit the chamber during tumbling, and delivering DRI into the chamber to tumble the DRI on the screen to remove fines from the DRI. Another embodiment of the method and system may include assembling a rotatable chamber having a feed end and an exit end, and having a screen therein capable of supporting DRI as the DRI moves through the chamber, and delivering DRI to the chamber and rotating the chamber to tumble the DRI while removing fines. L'invention concerne un matériau DRI traité présentant une rugosité de surface moyenne (Ra) inférieure à 1,5 µm. L'invention concerne également un procédé et un système pour la fabrication du DRI traité. Un mode de réalisation du procédé et du système peut comprendre l'assemblage d'une chambre rotative comprenant un tamis interne permettant de supporter le DRI pendant l'agitation, au moins une ouverture étant fournie dans la chambre pour permettre aux fines de quitter la chambre pendant l'agitation, et de distribuer le DRI dans la chambre pour agiter le DRI sur le tamis afin de retirer les fines du DRI. Un autre mode de réalisation du procédé et du système peut comprendre l'assemblage d'une chambre rotative comprenant une extrémité d'alimentation et une extrémité de sortie, et comprenant un tamis à l'intérieur permettant de supporter le DRI lorsque le DRI se déplace à travers la chambre, et de distribuer le DRI dans la chambre et d'entraîner la chambre en rotation pour agiter le DRI tout en retirant les fines.