GAS DISTRIBUTION DEVICE FOR VACUUM PROCESSING EQUIPMENT
The invention relates to a vacuum chamber for accommodating a substrate to be treated in a vacuum process comprising a gas inlet (7) connected to a gas source for receiving gas (A, B) and a gas distribution system (9) for dispensing the gas (A, B) from the gas inlet (7) to a plurality of outlet open...
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Hauptverfasser: | , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention relates to a vacuum chamber for accommodating a substrate to be treated in a vacuum process comprising a gas inlet (7) connected to a gas source for receiving gas (A, B) and a gas distribution system (9) for dispensing the gas (A, B) from the gas inlet (7) to a plurality of outlet openings (8) into the vacuum chamber at a plurality of locations towards the substrate, whereby the gas distribution system (9) comprises a first plate (10) and a second plate (5), each plate having a flat side, the first plate (10) exhibits a plurality of bores (4) forming the outlet openings (8), the second plate (5) exhibits a plurality of channels (6a, 6b) arranged on the flat side, the first plate (10) and the second plate (5) are mounted together with their flat sides directly contacting each other such that each bore (4) of the first plate (10) is arranged where a channel (6a, 6b) of the second plate (5) ends such that gas (A, B) is dispensable through the respective channel (6a, 6b) into the bore (4), and the individual channels (6a, 6b) merge into at least one common channel (6a, 6b) connected to the gas inlet (7) thus forming a branching arrangement. The vacuum chamber comprising the gas distribution system (9) provides for a significant improvement of the substrate coating homogeneity, thus in an improved quality of the so manufactured substrate while decreasing the manufacturing costs as well.
L'invention concerne une chambre à vide qui est destinée à recevoir un substrat devant être traité dans un procédé sous vide et qui comporte une entrée de gaz (7) raccordée à une source de gaz pour recevoir du gaz (A, B) et un système de distribution de gaz (9) pour distribuer le gaz (A, B) de l'entrée de gaz (7) vers une pluralité d'ouvertures de sortie (8) dans la chambre à vide au niveau d'une pluralité d'endroits dirigés vers le substrat, le système de distribution de gaz (9) comportant une première plaque (10) et une seconde plaque (5), chaque plaque ayant un côté plat, la première plaque (10) présentant une pluralité de trous (4) formant les ouvertures de sortie (8), la seconde plaque (5) présentant une pluralité de canaux (6a, 6b) agencés sur le côté plat, la première plaque (10) et la seconde plaque (5) étant montées ensemble, leur côté plat étant directement en contact l'un avec l'autre de façon à ce que chaque trou (4) de la première plaque (10) soit disposé à un endroit où un canal (6a, 6b) de la seconde plaque (5) se termine, de façon à pouvoir distribu |
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