DEVICE, SYSTEM AND METHOD FOR USE IN MACHINES FOR ELECTROCHEMICAL PATTERN REPLICATION

A device and method for electrochemical pattern replication, ECPR, is provided. The device comprises;a base;a bottom chuck on a X-Y-Theta stage;and a Z-stage with an attached top chuck, said chucks being configured to hold a master electrode or a substrate;a displacement monitor system for measuring displacement of the master electrode relative the substrate, wherein said displacement monitor system comprises a position sensor (22, 28) and a reference frame (21, 29 ), wherein the position sensor measures a distance to the reference frame. The method comprises the steps of measuring x-,y-,and theta values of the master electrode, when the master electrode and the substrate are separated and when the master electrode and the substrate are adjacent calculating a delta value, which is the difference in measured x-,y-,and theta values; comparing the delta value to a reference value;and adjusting the position of the master electrode in relation to the substrate to minimize the delta value. A device for providing electricity to the substrate is also provided. The device comprises a contact module for mounting on the chuck on all sides of the substrate so that electrical contact is possible along the whole perimeter of a substrate. L'invention concerne un dispositif de réplication électrochimique de motifs, ECPR. Le dispositif comprend: une base; un support de tranche inférieur sur un étage Thêta-X-Y, ledit support de tranche inférieur étant conçu pour retenir une électrode principale ou un substrat; et un étage Z auquel est fixé un support de tranche, ledit support de tranche supérieur étant conçu pour retenir une électrode principale lorsque le support de tranche inférieur est conçu pour retenir un substrat, ou un substrat lorsque le support de tranche inférieur est conçu pour retenir une électrode principale; un système de surveillance de déplacement pour mesurer le déplacement de l'électrode principale relativement au substrat, ledit système de surveillance de déplacement comprenant un capteur de position et un bâti de référence, le capteur de surveillance de position mesurant une distance par rapport au bâti de référence. L'invention concerne également un procédé de réplication électrochimique de motifs, ECPR. Le procédé comprend les étapes consistant à utiliser une électrode principale et un substrat, ledit procédé comprend les étapes consistant à mesurer des valeurs thêta, X et Y de l'électrode principale, lorsque l'électrode principale et le substrat sont