MICRO-ELECTRO-MECHANICAL SYSTEM
A method of forming a Micro-Electro-Mechanical System (MEMS) includes forming a lower electrode on a first insulator layer within a cavity of the MEMS. The method further includes forming an upper electrode over another insulator material on top of the lower electrode which is at least partially in...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A method of forming a Micro-Electro-Mechanical System (MEMS) includes forming a lower electrode on a first insulator layer within a cavity of the MEMS. The method further includes forming an upper electrode over another insulator material on top of the lower electrode which is at least partially in contact with the lower electrode. The forming of the lower electrode and the upper electrode includes adjusting a metal volume of the lower electrode and the upper electrode to modify beam bending.
L'invention concerne un procédé pour former un système microélectromécanique (MEMS) qui consiste à former une électrode inférieure sur une première couche d'isolation à l'intérieur d'une cavité du MEMS. Le procédé consiste également à former une électrode supérieure sur un autre matériau isolant au-dessus de l'électrode inférieure qui est au moins partiellement en contact avec l'électrode inférieure. La formation de l'électrode inférieure et de l'électrode supérieure consiste à ajuster un volume de métal de l'électrode inférieure et de l'électrode supérieure pour modifier la déflexion de faisceau. |
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