FULL-ENCLOSURE, CONTROLLED-FLOW MINI-ENVIRONMENT FOR THIN FILM CHAMBERS

An enclosure for generating a secondary environment within a processing chamber for coating a substrate. An enclosure wall forms a secondary environment encompassing the coating source, plasma, and the substrate, and separating them from interior of the processing chamber. The enclosure wall includes a plurality of pumping channels for diverting gaseous flow away from the substrate. The channels have an intake of larger diameter from the exhaust opening and are oriented at an angle with the intake opening pointing away from the deposition source. A movable seal enables transport of the substrate in open position and processing the substrate in closed position. The seal may be formed as a labyrinth seal to avoid particle generation from a standard contact seal. L'invention porte sur une enceinte pour générer un environnement secondaire à l'intérieur d'une chambre de traitement pour revêtir un substrat. Une paroi d'enceinte forme un environnement secondaire englobant la source de revêtement, le plasma et le substrat, et les séparant de l'intérieur de la chambre de traitement. La paroi d'enceinte comprend une pluralité de canaux de pompage pour dévier un écoulement gazeux de façon à l'éloigner du substrat. Les canaux ont une admission ayant un diamètre supérieur à celui de l'ouverture d'évacuation, et sont orientés selon un certain angle, l'ouverture d'admission pointant de façon à s'éloigner de la source de dépôt. Un joint d'étanchéité mobile permet le transport du substrat en position ouverte et le traitement du substrat en position fermée. Le joint d'étanchéité peut être formé sous la forme d'un joint d'étanchéité labyrinthe afin d'éviter une génération de particules par rapport à un joint d'étanchéité à contact standard.