TEMPERATURE CONTROL IN PLASMA PROCESSING APPARATUS USING PULSED HEAT TRANSFER FLUID FLOW

Methods and systems for controlling temperatures in plasma processing chamber via pulsed application of heating power and pulsed application of cooling power. In an embodiment, temperature control is based at least in part on a feedforward control signal derived from a plasma power input into the processing chamber. In further embodiments, fluid levels in each of a hot and cold reservoir coupled to the temperature controlled component are maintained in part by a passive leveling pipe coupling the two reservoirs. In another embodiment, digital heat transfer fluid flow control valves are opened with pulse widths dependent on a heating/cooling duty cycle value and a proportioning cycle having a duration that has been found to provide good temperature control performance. Procédés et systèmes pour commander les températures dans une chambre de traitement au plasma via une application pulsée d'énergie de chauffage et une application pulsée d'énergie de refroidissement. Dans un mode de réalisation, la commande de température repose au moins en partie sur un signal de commande prédictive découlant de la puissance de plasma injectée dans la chambre de traitement. Dans d'autres modes de réalisation, les niveaux de fluide dans chacun des réservoirs chaud et froid couplés au composant commandé en température sont maintenus en partie par un tuyau de réglage de niveau passif raccordant les deux réservoirs. Dans un autre mode de réalisation, les soupapes de commande de l'écoulement fluide de transfert de chaleur numériques s'ouvrent avec des largeurs d'impulsion fonction d'une valeur de cycle de service de chauffage/refroidissement et un cycle de dosage ayant une durée dont on a constaté qu'elle assurait de bonnes performances en commande de température.