METHOD OF CONTINUOUSLY PRODUCING TETRAFLUOROSILANE BY USING VARIOUS FLUORINATED MATERIALS, AMORPHOUS SILICA AND SULFURIC ACID

The present invention relates to a method of continuously producing tetrafluorosilane (SiF4) by using various fluorinated materials, amorphous silica (SiO2) and sulfuric acid (H2SO4). According to the present invention, the yield of tetrafluorosilane can increase and it can be continuously produced...

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Hauptverfasser: KANG, KYUNG HOON, CHO, YEON SEOK, KIM, SE JONG
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a method of continuously producing tetrafluorosilane (SiF4) by using various fluorinated materials, amorphous silica (SiO2) and sulfuric acid (H2SO4). According to the present invention, the yield of tetrafluorosilane can increase and it can be continuously produced in an environmentally friendly manner with low cost. In addition, the amount of hydrogen fluoride generated during the reaction is minimized and thus the corrosion of devices can be minimized, and the pipeline blockage and yield decrease of SiF4 can be prevented by passing the reaction product which is a mixture gas of SiF4 and water through an H2SO4 scrubber at a high temperature to remove water, which can prevent the generation of silica gel and hexafluorosilicic acid by the side-reaction of condensed water and SiF4. Cette invention concerne un procédé de production de tétrafluorosilane (SiF4) en continu à partir de divers matériaux fluorés, de silice amorphe (SiO2) et d'acide sulfurique (H2SO4). Selon la présente invention, le rendement de tétrafluorosilane peut augmenter et il peut être produit en continu d'une manière respectueuse de l'environnement, à bas coût. De plus, la quantité de fluorure d'hydrogène générée pendant la réaction est minimisée, et la corrosion des dispositifs peut, de ce fait, être réduite, et les bouchages de tuyaux et la réduction de rendement du SiF4 peuvent être évités par passage du produit réactionnel qui est un gaz en mélange de SiF4 et d'eau par un laveur H2SO4 à une température élevée pour éliminer l'eau, ce qui peut prévenir la génération de gel de silice et d'acide hexafluorosilicique par une réaction secondaire de l'eau condensée et du SiF4.