FEEDFORWARD TEMPERATURE CONTROL FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS

Methods and systems for controlling temperatures in plasma processing chamber with reduced controller response times and increased stability. Temperature control is based at least in part on a feedforward control signal derived from a plasma power input into the processing chamber. A feedforward control signal compensating disturbances in the temperature attributable to the plasma power may be combined with a feedback control signal counteracting error between a measured and desired temperature. L'invention concerne des procédés et des systèmes de régulation de la température dans une chambre de traitement au plasma avec des temps de réponse réduits du régulateur et une stabilité accrue. La régulation de la température se base en partie sur un signal de régulation à action directe dérivé d'une entrée d'énergie du plasma dans la chambre de traitement. Un signal de régulation à action directe qui compense les perturbations dans la température pouvant être attribuées à l'énergie du plasma peut être combiné avec un signal de régulation de contre-réaction qui contrecarre les erreurs entre une température mesurée et une température souhaitée.