HIGH TEMPERATURE CHUCK AND METHOD OF USING SAME
Improved resistance to temperature-related degradation or deformation in a wafer-supporting chuck is provided by at least one shielding member that physically and/or thermally shields chuck components from effects of elevated temperature processing fluids. L'invention concerne un procédé permet...
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| Hauptverfasser: | , |
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | Improved resistance to temperature-related degradation or deformation in a wafer-supporting chuck is provided by at least one shielding member that physically and/or thermally shields chuck components from effects of elevated temperature processing fluids.
L'invention concerne un procédé permettant d'améliorer la résistance à la déformation ou à la détérioration liée à la température dans un mandrin porte-tranche. Le procédé consiste à utiliser au moins un élément de blindage qui protège physiquement et/ou thermiquement les composants du mandrin contre des effets de fluides de traitement présentant des températures élevées. |
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