IMAGE PROCESSING-BASED LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET OBJECT COATING METHOD

Disclosed is a technology for a lithography system. According to one embodiment of the present invention, the lithography system comprises: at least one target object which is disposed on a substrate; a processor which determines optical patterns for coating layers of the at least one target object by performing the image processing for the at least one target object; and an exposure device which provides the light having the optical patterns determined by the processor to the substrate. L'invention concerne une technologie destinée à un système de lithographie. Selon un mode de réalisation de l'invention, ce système de lithographie comprend au moins un objet cible qui est disposé sur un substrat, un processeur qui détermine des motifs optiques pour des couches de revêtement de l'objet cible en effectuant un traitement d'image pour l'objet cible, et un dispositif d'exposition qui produit de la lumière présentant des motifs optiques déterminés par le processeur sur le substrat.