PHOTOCURABLE TRANSFER SHEET, AND METHOD FOR FORMING RECESSED AND PROJECTED PATTERN USING SAME
Disclosed is a photocurable transfer sheet which can be advantageously used for the production of an intermediate stamper that is used in a nanoimprinting process. The photocurable transfer sheet exhibits excellent releasability from a mold, which is used for the production of the intermediate stamp...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | Disclosed is a photocurable transfer sheet which can be advantageously used for the production of an intermediate stamper that is used in a nanoimprinting process. The photocurable transfer sheet exhibits excellent releasability from a mold, which is used for the production of the intermediate stamper and has a fine recessed and projected pattern, and also exhibits excellent releasability from a photocurable resin to which a recessed and projected pattern is transferred from the intermediate stamper. In addition, the photocurable transfer sheet exhibits excellent transferability of a recessed and projected pattern. Also disclosed is a method for forming a fine recessed and projected pattern using the photocurable transfer sheet. Specifically disclosed is a photocurable transfer sheet (10) which comprises a photocurable transfer layer (11) that can be deformed by the application of a pressure and is composed of a photocurable composition that contains a polymer and a reactive diluent agent. The photocurable transfer sheet (10) is characterized in that the polymer is composed of an acrylic resin that contains a (meth)acrylate repeating unit having an alicyclic group. Also specifically disclosed is a method for forming a recessed and projected pattern using the photocurable transfer sheet (10).
La présente invention se rapporte à une feuille de transfert photodurcissable qui peut être utilisée de façon avantageuse pour la production d'une matrice intermédiaire qui est utilisée dans un procédé de nanoimpression. La feuille de transfert photodurcissable selon l'invention présente une excellente capacité de démoulage à partir d'un moule qui est utilisé pour la production de la matrice intermédiaire et comporte un motif en creux et en bosses précis. La feuille de transfert photodurcissable présente également une excellente capacité de démoulage à partir d'une résine photodurcissable sur laquelle un motif en creux et en bosses est transféré à partir de la matrice intermédiaire. En outre, la feuille de transfert photodurcissable présente une excellente capacité de transférabilité d'un motif en creux et en bosses. La présente invention se rapporte également à un procédé de formation d'un motif en creux et en bosses précis au moyen de la feuille de transfert photodurcissable. De façon plus spécifique, la présente invention se rapporte à une feuille de transfert photodurcissable (10) qui comprend une couche de transfert photodurcissable (11) qui peut être déformée par |
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