METHOD FOR MANUFACTURING A THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

In a method for manufacturing a photovoltaic device there is provided a substrate, a first electrode and one or more semiconductor thin film p-i-n or n-i-p junctions on the substrate. Then a second electrode is provided. Before applying the second electrode the surface of the junction is exposed to...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KROLL, ULRICH, VALLANT-SAUVAIN, EVELYNE, MEIER, JOHANNES, BORRELLO, DANIEL
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:In a method for manufacturing a photovoltaic device there is provided a substrate, a first electrode and one or more semiconductor thin film p-i-n or n-i-p junctions on the substrate. Then a second electrode is provided. Before applying the second electrode the surface of the junction is exposed to controlled oxidation so as to deactivate leaking boundaries through the junction. L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque qui consiste à produire un substrat, une première électrode et une ou plusieurs jonctions p-i-n ou n-i-p à couches minces semi-conductrices sur le substrat. Une seconde électrode est ensuite produite. Avant d'appliquer la seconde électrode, la surface de la jonction est exposée à une oxydation ménagée de façon à désactiver des frontières qui fuient dans la jonction.