MASK INSPECTION MICROSCOPE WITH VARIABLE ILLUMINATION SETTING

During mask inspection it is necessary to identify defects which also occur during wafer exposure. Therefore, the aerial images generated in the resist and on the detector have to be as far as possible identical. In order to achieve an equivalent image generation, during mask inspection the illumination and, on the object side, the numerical aperture are adapted to the scanner used.The invention relates to a mask inspection microscope for variably setting the illumination. It serves for generating an image of the structure (150) of a reticle (145) arranged in an object plane in a field plane of the mask inspection microscope. It comprises a light source (5) that emits projection light, at least one illumination beam path (3, 87, 88), and a diaphragm for generating a resultant intensity distribution of the projection light in a pupil plane (135) of the illumination beam path (3, 87, 88) that is optically conjugate with respect to the object plane. According to the invention, the diaphragm is embodied in such a way that the resultant intensity distribution of the projection light has at least one further intensity value between a minimum and a maximum intensity value. Lors de l'inspection d'un masque, il est nécessaire d'identifier des défauts qui apparaissent également au cours d'une exposition d'une plaquette. Par conséquent, les images réelles produites dans la réserve et sur le détecteur doivent être aussi identiques que possible. Pour parvenir à une production d'images équivalentes, lors de l'inspection d'un masque, l'éclairage et, côté objet, l'ouverture numérique sont adaptés au scanneur utilisé. La présente invention concerne un microscope d'inspection de masque permettant un réglage variable de l'éclairage. Il sert à produire une image de la structure (150) d'un réticule (145) situé dans un plan d'objet dans un plan de champ du microscope d'inspection de masque. Il comprend une source de lumière (5) qui émet une lumière de projection, au moins un chemin de faisceau d'éclairage (3, 87, 88) et un diaphragme permettant de produire une distribution d'intensité résultant de la lumière de projection dans un plan pupillaire (135) du chemin de faisceau d'éclairage (3, 87, 88) qui est conjugué de manière optique par rapport au plan d'objet. D'après l'invention, le diaphragme est réalisé d'une manière telle que la distribution d'intensité résultant de la lumière de projection a au moins une valeur d'intensité supplémentaire entre une valeur d'intensité minimu