PATTERNING HYDROGELS AND CELL CULTURE ARTICLE

A method for forming a pattern-coated substrate includes disposing a composition comprising a polysaccharide-based polymer on a substrate to generate a coated substrate. The polysaccharide-based polymer composition is substantially free of cross-linking monomers. The method further includes exposing...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HANCOCK, JR., ROBERT R, HESCH, TRISTA N, CHANG, THERESA, SORENSEN, MICHAEL L, YONGSUNTHON, RUCHIREJ
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BEER BIOCHEMISTRY CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS THEREOF CULTURE MEDIA ELECTROGRAPHY ENZYMOLOGY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY MICROBIOLOGY MICROORGANISMS OR ENZYMES MUTATION OR GENETIC ENGINEERING ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PROPAGATING, PRESERVING OR MAINTAINING MICROORGANISMS SPIRITS VINEGAR WINE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method for forming a pattern-coated substrate includes disposing a composition comprising a polysaccharide-based polymer on a substrate to generate a coated substrate. The polysaccharide-based polymer composition is substantially free of cross-linking monomers. The method further includes exposing a portion of the coated substrate to a first dose of UV radiation to induce crosslinking of the polysaccharide-based polymer, wherein a portion of the substrate is shielded from the ionizing radiation. The UV exposed coated substrate may be washed or hydrated to remove uncross-linked polysaccharide-based polymer. L'invention porte sur un procédé qui permet de former un substrat recouvert d'un motif et qui comprend la disposition d'une composition comportant un polymère à base de polysaccharide sur un substrat pour obtenir un substrat revêtu. La composition de polymère à base de polysaccharide est pratiquement exempte de monomères de réticulation. Le procédé comprend en outre l'exposition d'une partie du substrat revêtu à une première dose de rayonnement UV pour déclencher la réticulation du polymère à base de polysaccharide, une partie du substrat étant protégée du rayonnement ionisant. Le substrat revêtu exposé aux UV peut être lavé ou hydraté pour enlever le polymère à base de polysaccharide non réticulé.