SILICA GLASS WITH SATURATED INDUCED ABSORPTION AND METHOD OF MAKING

A silica glass article, such as a lens in a stepper/scanner system, having saturated induced absorption at wavelengths of less than about 250 nm. Saturated induced absorption is achieved by first removing Si-O defects in the silica glass by forming silicon hydride (SiH) at such defects, and loading the silica glass with hydrogen to react with E' centers formed by photolysis of SiH in the silica glass article. The silicon hydride is formed by loading the silica glass with molecular hydrogen at temperatures of at least 475°C. After formation of SiH, the silica glass is loaded with additional molecular hydrogen at temperatures of less than 475°C. L'invention porte sur un article en verre de silice, tel qu'une lentille dans un système moteur pas-à-pas/scanner, ayant une absorption induite saturée à des longueurs d'ondes de moins d'environ 250 nm. On obtient une absorption induite saturée en éliminant d'abord des défauts Si-O dans le verre de silice par formation d'hydrure de silicium (SiH) à de tels défauts, et en chargeant le verre de silice par de l'hydrogène pour réagir avec des centres E' formés par photolyse de SiH dans l'article en verre de silice. On forme le nitrure de silicium en changeant le verre de silice par de l'hydrogène moléculaire à des températures d'au moins 475°C. Après formation de SiH, le verre de silice est chargé par de l'hydrogène moléculaire supplémentaire à des températures de moins de 475°C.