ATOMIC LAYER DEPOSITION COATINGS ON RAZOR

A novel application of the atomic layer deposition (ALD) process for producing a conformal coating on a razor blade is disclosed where a uniform, conformal, dense coating is deposited on an entire surface of a blade flank and at least a portion or an entire surface of a blade body. To improve the sh...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MADEIRA, JOHN, SONNENBERG, NEVILLE
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL CUTTING DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL HAND CUTTING TOOLS HAND-HELD CUTTING TOOLS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PERFORMING OPERATIONS SEVERING SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A novel application of the atomic layer deposition (ALD) process for producing a conformal coating on a razor blade is disclosed where a uniform, conformal, dense coating is deposited on an entire surface of a blade flank and at least a portion or an entire surface of a blade body. To improve the shaving ability of the coated blade edge (e.g., decrease the blade tip radius), the ALD-produced coating may be etched during, after, or both during and after, the ALD process. La présente invention concerne une nouvelle application du procédé de dépôt de couches atomiques (ALD) pour produire un revêtement conforme sur une lame de rasoir selon lequel un revêtement dense conforme et uniforme est déposé sur toute la surface du flanc de lame et au moins une partie ou une surface entière d'un corps de lame. Pour améliorer la capacité à raser du tranchant de lame revêtu (par exemple, réduire le rayon d'extrémité de lame), le dépôt de couches atomiques produit peut être gravé pendant ou après, ou également pendant et après, le procédé de dépôt de couches atomiques.