PROCESS FOR MAKING FILLED RESINS

A method of making a filled resin includes the steps of: Providing a wiped film evaporator with an internal evaporator chamber maintained under vacuum and having an internal chamber wall maintained at an elevated temperature; introducing solvent-borne particles and organic matrix into the internal c...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ARCHIBALD, MATTHEW N, MILLER, JEREMY A, SPAWN, TERRANCE D, THOMPSON, WENDY L, NELSON, JAMES M, LARSON, RANDY A
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SEPARATION THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method of making a filled resin includes the steps of: Providing a wiped film evaporator with an internal evaporator chamber maintained under vacuum and having an internal chamber wall maintained at an elevated temperature; introducing solvent-borne particles and organic matrix into the internal chamber; and compounding the solvent-borne particles and the organic matrix in the internal evaporator chamber by forming a thin film against the internal chamber wall, the thin film including organic matrix and particles, and the vacuum conditions and elevated temperature being sufficient to remove solvent from the particles and organic matrix to provide the filled resin. Less than about 10% of the particles in the resulting filled resin are agglomerated. La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une résine chargée comprenant les étapes consistant à : fournir un évaporateur à film raclé comprenant une chambre d'évaporation interne maintenue sous vide et ayant une paroi de chambre interne maintenue à une température élevée ; introduire les particules à base de solvant et la matrice organique à l'intérieur de la chambre interne ; et mélanger les particules à base de solvant et la matrice organique à l'intérieur de la chambre interne de l'évaporateur en formant un film mince contre la paroi interne de la chambre, le film mince comprenant une matrice organique et des particules, et les conditions sous vide et la température élevée étant suffisantes pour éliminer le solvant des particules et la matrice organique afin de fournir la résine chargée. Moins d'environ 10 % des particules dans la résine chargée résultante sont agglomérées.