PLASMA ELECTRODE CONFIGURATION FOR FORMING AN ELECTRON SHEATH LAYER
The present disclosure provides for a method of treating tissue. The method includes the steps of: positioning a plasma device in spaced relation to target tissue in accordance with a target tissue effect and generating plasma including secondarily-emitted electrons sufficient such that the target t...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | The present disclosure provides for a method of treating tissue. The method includes the steps of: positioning a plasma device in spaced relation to target tissue in accordance with a target tissue effect and generating plasma including secondarily-emitted electrons sufficient such that the target tissue effect is achieved.
La présente invention concerne un procédé de traitement de tissu. Le procédé comprend les étapes de : positionnement d'un dispositif à plasma en relation espacée par rapport au tissu cible conformément à un effet sur le tissu cible et génération d'un plasma comprenant des électrons émis de façon secondaire suffisants pour que l'effet sur le tissu cible soit obtenu. |
---|