INSPECTION METHOD FOR LITHOGRAPHY

An inspection apparatus configured to measure a property of a substrate (W) includes an illumination source (51), a beam splitter (53), a first polarizer (52) positioned between the illumination source and the beam splitter, an objective lens (15) and an optical device (54) that alters a polarizatio...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HUGERS, RONALD, SINKE, ARNOLD, TAS, MARNIX, DE WIT, JOHANNES
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:An inspection apparatus configured to measure a property of a substrate (W) includes an illumination source (51), a beam splitter (53), a first polarizer (52) positioned between the illumination source and the beam splitter, an objective lens (15) and an optical device (54) that alters a polarization state of radiation traveling through it positioned between the beam splitter and the substrate and a second polarizer (55) positioned between the beam splitter and a detector (56). An axis of the second polarizer is rotated with respect to an axis of the first polarizer. Radiation polarized by the first polarizer that reflects off any optical elements (57) between the beam splitter and the optical device is prevented from entering the detector by the second polarizer. Only radiation that passes twice through the optical device (54) has its polarization direction rotated so that it passes through the second polarizer and enters the detector. La présente invention concerne un appareil d'inspection conçu pour mesurer une propriété d'un substrat (W). Ledit appareil comprend une source d'éclairage (51), un diviseur de faisceau (53), un premier polariseur (52) positionné entre la source d'éclairage et le diviseur de faisceau, une lentille d'objectif (15) et un dispositif optique (54) qui modifie un état de polarisation d'un rayonnement se déplaçant à travers celui-ci et positionné entre le diviseur de faisceau et le substrat, et un second polariseur (55) positionné entre le diviseur de faisceau et un détecteur (56). Un axe du second polariseur est tourné par rapport à un axe du premier polariseur. Le rayonnement polarisé par le premier polariseur et qui est réfléchi par un quelconque élément optique (57) situé entre le diviseur de faisceau et le dispositif optique est empêché d'entrer dans le détecteur par le second polariseur. Seul le rayonnement qui passe deux fois par le dispositif optique (54) voit sa direction de polarisation tourner, de sorte qu'il passe par le second polariseur et entre dans le détecteur.