REACTION FURNACE FOR MOISTURE GENERATION

Disclosed is a reaction furnace for moisture generation whereby high-purity water is generated, without burning, by supplying hydrogen gas and oxygen gas to the reaction furnace provided with a platinum catalyst layer and catalytically reacting these gases at a catalytic reaction temperature lower than the ignition points of the hydrogen gas and oxygen gas, wherein the platinum catalyst layer can sustain a high adhesion strength over a long time to a barrier layer that is positioned between a matrix and the platinum catalyst layer. Specifically disclosed is a reaction furnace for moisture generation, which comprises a reaction furnace main body provided with a gas inlet and a moisture outlet, a Y2O3 barrier layer film-formed at least on a part of the inside wall of said reaction furnace main body, and a platinum catalyst layer film-formed at least on a part of said Y2O3 barrier layer. The film thickness of said Y2O3 barrier layer is preferably 50 nm to 5 µm. Le four à réaction générateur d'humidité ci-décrit génère une eau de pureté élevée, sans combustion, par injection de gaz hydrogène et de gaz oxygène dans ledit four à réaction qui est pourvu d'une couche de catalyseur de type platine, et réaction catalytique de ces gaz à une température de réaction catalytique inférieure aux points d'ignition du gaz hydrogène et du gaz oxygène. Dans ledit procédé, la couche de catalyseur de platine peut conserver une force d'adhérence élevée et durable à une couche barrière qui est positionnée entre une matrice et la couche de catalyseur de platine. Le four à réaction générateur d'humidité spécifiquement décrit comprend un corps principal de four à réaction pourvu d'une admission de gaz et d'une évacuation d'humidité, d'une couche barrière à base d'un film Y2O3 formé sur au moins une partie de la paroi intérieure dudit corps principal de four à réaction, et d'une couche de catalyseur de platine sous la forme d'un film formé sur au moins une partie de ladite couche barrière Y2O3. L'épaisseur de film de ladite couche barrière Y2O3 est, de préférence, de 50 nm à 5 µm.