NOVEL GERMANIUM COMPLEXES WITH AMIDINE DERIVATIVE LIGAND AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME

Provided is a germanium complex represented by Chemical Formula 1 wherein Y1 and Y2 are independently selected from R3, NR4R5 or OR6, and R1 through R6 independently represent (Ci-C7) alkyl. The provided germanium complex with an amidine derivative ligand is thermally stable, is highly volatile, and does not include halogen components. Therefore, it may be usefully used as a precursor to produce high-quality germanium thin film or germanium-containing compound thin film by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) or atomic layer deposition (ALD). L'invention concerne un complexe de germanium représenté par la Formule chimique 1, dans laquelle Y1 et Y2 sont choisis indépendamment parmi R3, NR4R5 ou OR6, et R1 à R6 représentent indépendamment un alkyle en (C1-C7). Le complexe de germanium avec un ligand dérivé d'amidine décrit est thermiquement stable, hautement volatil et ne comprend pas de composants halogène. Il peut par conséquent être utilisé de manière utile en tant que précurseur pour produire un film mince de germanium de grande qualité ou un film mince d'un composé contenant du germanium par dépôt chimique en phase vapeur utilisant des organo-métalliques (MOCVD) ou par dépôt en couche atomique (ALD).