HELIUM RECOVERY FROM SEMICONDUCTOR CLUSTER TOOLS
Systems for the recovery of rare gas from a mixed gas stream are described. In particular, systems for the recovery of helium from cluster tools used in semiconductor fabrication are described. In one embodiment, these systems allow for the recovery of rare gas, such as helium, from the waste gas fr...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Systems for the recovery of rare gas from a mixed gas stream are described. In particular, systems for the recovery of helium from cluster tools used in semiconductor fabrication are described. In one embodiment, these systems allow for the recovery of rare gas, such as helium, from the waste gas from a processing chamber, or a cluster tool, when a predetermined amount of rare gas is known to be present in the waste gas. In a further embodiment, analyzing means are used to determine the amount of rare gas, such as helium, present in the waste gas and when that amount warrants, the rare gas is recovered from the waste gas using a dedicated rare gas recovery process.
L'invention porte sur des systèmes pour la récupération d'un gaz rare à partir d'un courant gazeux mixte. En particulier, l'invention porte sur des systèmes pour la récupération d'hélium à partir d'outils groupés utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Dans un mode de réalisation, ces systèmes permettent la récupération d'un gaz rare, tel que l'hélium, à partir du gaz résiduaire provenant d'une chambre de traitement, ou d'un outil groupé, lorsqu'une quantité prédéterminée de gaz rare est connue pour être présente dans le gaz résiduaire. Dans un autre mode de réalisation, des moyens d'analyse sont utilisés pour déterminer la quantité de gaz rare, tel que l'hélium, présent dans le gaz résiduaire, et lorsque cette quantité est obtenue, le gaz rare est récupéré à partir du gaz résiduaire à l'aide d'un procédé de récupération de gaz rare dédié. |
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