COMPOSITION FOR PATTERNING ON THERMOSTABLE TRANSPARENT INSULATOR THIN FILM AND PATTERNING METHOD OF THIN FILM

Disclosed herein is a composition for patterning a thermostable transparent insulator thin film, including: a first oligomer having a weight average molecular weight of 500 to 10,000, the first oligomer being obtained by hydrolyzing and polymerizing silane represented by the Formula R-CH2CH2CH2Si(OR')3 (R is a monovalent substituent having at least one ethenyl group, and R' is a monovalent substituent of four carbon atoms or less); a photoinitiator generating a free radical using the irradiation of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm or more; and at least one of a monomer and a second oligomer having two or more unsaturated bonds in one molecule thereof. The composition is advantageous in that the hardness of the thin film can be improved by adding a monomer or oligomer having two or more unsaturated bonds to the composition as a crosslinker, the sensitivity of the composition to ultraviolet rays and the curing rate of the composition can be further improved, a photoinitiator can be widely used regardless of the kind thereof by improving the sensitivity of the photoinitiator included in the composition to ultraviolet rays, and the patterning process can be performed even by ultraviolet rays having low energy. La présente invention concerne une composition pour le modelage de contours d'une couche d'isolant mince transparente et thermostable, comportant: un premier oligomère ayant un poids moléculaire moyen compris entre 500 e 10,000, le premier oligomère étant obtenu par l'hydrolyse et la polymérisation de silane de formule R-CH2CH2CH2Si(OR')3, dans laquelle R est un substituant monovalent comportant au moins un groupe éthényle, et R' est un substituant monovalent comprenant un maximum de quatre atomes de carbone ; un photo-initiateur générant un radical libre au moyen de l'irradiation de rayons ultraviolets ayant une longueur d'onde égale ou supérieure à 365 nm ; et au moins un parmi un monomère et un second oligomère ayant au moins deux liaisons insaturées dans une molécule. La composition est avantageuse en ce que la dureté de la couche mince peut être améliorée par l'ajout d'un monomère ou oligomère ayant au moins deux liaisons insaturées à la composition en tant qu'agent de réticulation, la sensibilité de la composition aux rayons ultraviolets et le taux de durcissement de la composition peuvent être améliorés davantage, un photo-initiateur peut être utilisé indépendamment de son type améliorant ainsi la sensibilité du photo-amorceur compri