GAS DISTRIBUTION BLOCKER APPARATUS

Embodiments of the present invention generally provide apparatus and methods for altering the flow and pressure differential of process gases supplied across a showerhead of a processing chamber to provide improved deposition uniformity across the surface of a substrate disposed therein. In one embodiment, a blocker plate is disposed between a backing plate and a showerhead. In one embodiment, the distance between the blocker plate and the showerhead is adjustable. In another embodiment, the blocker plate has a non-planar surface contour. In another embodiment, a regional blocker plate is disposed between a backing plate and a showerhead. In another embodiment, a central blocker plate and a peripheral blocker plate are disposed between a backing plate and a showerhead. Les modes de réalisation de la présente invention concernent de manière générale un appareil et des procédés destinés à modifier le débit et le différentiel de pression de gaz de process amenés à travers la pomme de douche d'une chambre de traitement afin d'assurer une uniformité améliorée de dépôt sur la surface d'un substrat disposé dans celle-ci. Dans un mode de réalisation, une plaque obturatrice est disposée entre une plaque d'appui et une pomme de douche. Dans un mode de réalisation, la distance entre la plaque obturatrice et la pomme de douche est réglable. Dans un autre mode de réalisation, la plaque obturatrice présente un profil de surface non planaire. Dans un autre mode de réalisation, une plaque obturatrice régionale est disposée entre une plaque d'appui et une pomme de douche. Dans un autre mode de réalisation, une plaque obturatrice centrale et une plaque obturatrice périphérique sont disposées entre une plaque d'appui et une pomme de douche.