METHOD AND DEVICE FOR PLASMA TREATMENT OF A FLAT SUBSTRATE
Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung eines Substrats in einer Plasmavorrichtung, wobei - das Substrat (110) zwischen einer Elektrode (112) und einer Gegenelektrode (108) mit einem Abstand d zwischen einem zu behandelnden Oberflächenbereich des Substrats und der Elektrode angeordnet wird, -...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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