METHOD AND DEVICE FOR PLASMA TREATMENT OF A FLAT SUBSTRATE

Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung eines Substrats in einer Plasmavorrichtung, wobei - das Substrat (110) zwischen einer Elektrode (112) und einer Gegenelektrode (108) mit einem Abstand d zwischen einem zu behandelnden Oberflächenbereich des Substrats und der Elektrode angeordnet wird, -...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GEISLER, MICHAEL, SIEMERS, MICHAEL, ZEUNER, ARNDT, PFLUG, ANDREAS, FIEDLER, MARKS, GRABOSCH, GUENTER, CZARNETZKI, UWE, BRINKMANN, RALF-PETER, BECKMANN, RUDOLF
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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