MULTIPLE GAS FEED APPARATUS AND METHOD

Embodiments of the present invention generally provide apparatus and methods for introducing process gases into a processing chamber at a plurality of locations. In one embodiment, a central region of a showerhead and corner regions of a showerhead are fed process gases from a central gas source with a first mass flow controller regulating the flow in the central region and a second mass flow controller regulating the flow in the corner regions. In another embodiment, a central region of a showerhead is fed process gases from a first gas source and corner regions of the showerhead are fed process gases from a second gas source. In another embodiment, a central region of a showerhead is fed process gases from a first gas source and each corner region of the showerhead is fed process gases from a separate gas source. Dans des modes de réalisation, la présente invention concerne généralement un appareil et des procédés pour introduire des gaz de traitement dans une chambre de traitement à une pluralité d'emplacements. Dans un mode de réalisation, une région centrale d'une douchette et les régions de coin d'une douchette sont alimentées en gaz de traitement à partir d'une source de gaz centrale avec un premier dispositif de commande d'écoulement de masse régulant le flux dans la région centrale et un second dispositif de commande d'écoulement de masse régulant le flux dans les régions de coin. Dans un autre mode de réalisation, une région centrale d'une douchette est alimentée en gaz de traitement à partir d'une première source de gaz et les régions de coin de la douchette sont alimentées en gaz de traitement à partir d'une seconde source de gaz. Dans un autre mode de réalisation, une région centrale d'une douchette est alimentée en gaz de traitement à partir d'une première source de gaz et chaque région de coin de la douchette est alimentée en gaz de traitement à partir d'une source de gaz séparée.