DOUBLE SIDEWALL ANGLE NANO-IMPRINT TEMPLATE

The present application describes a template with feature profiles that have multiple sidewall angles. The multiple sidewall angles facilitate control over critical dimensions and reduce issues related to template release. La présente invention concerne un gabarit présentant des profils de forme com...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	COWHER, JOHN, THOMAS, BROOKS, CYNTHIA, B, MILLER, MICHAEL, N, LABRAKE, DWAYNE, L
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES NANOTECHNOLOGY ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The present application describes a template with feature profiles that have multiple sidewall angles. The multiple sidewall angles facilitate control over critical dimensions and reduce issues related to template release. La présente invention concerne un gabarit présentant des profils de forme comportant plusieurs inclinaisons des parois latérales. La multiplicité des inclinaisons des parois permet une meilleure gestion des dimensions critiques et réduit les problèmes se posant lors du dégagement du gabarit.