MULTIPLE PHASE RF POWER FOR ELECTRODE OF PLASMA CHAMBER

RF power is coupled with different phase offsets to different RF connection points (31- 34) on an electrode (20-26) of a plasma chamber. Preferably, the number of different RF connection points and corresponding phase offsets is at least four, and the positions of the RF connection points are distributed along two orthogonal dimensions (for example, X and Y axes) of the electrode. Preferably, power to each respective RF connection point is supplied by a respective RF power supply (41-44), wherein each power supply synchronizes its phase to a common reference RF oscillator (70). Selon l'invention, une puissance RF est couplée avec des décalages de phases différents à divers points de connexion RF (31-34) sur une électrode (20-26) d'une chambre à plasma. De préférence, le nombre de points de connexion RF différents, et de décalages de phase correspondants, est égal à au moins 4, et les positions des points de connexion RF sont réparties le long de deux dimensions orthogonales (par exemple, les axes X et Y) de l'électrode. De préférence, la puissance est fournie à chaque point de connexion RF correspondant par une alimentation en puissance RF correspondante (41-44), chaque alimentation synchronisant sa phase par rapport à un oscillateur RF de référence commun (70).