WAFER PROCESSING APPARATUS HAVING A TUNABLE ELECTRICAL RESISTIVITY

An article with an etch resistant coating is disclosed. The article is a heating element, wafer carrier, or electrostatic chuck. The article has a base substrate made of a ceramic or other material, and further has one or more electrodes for resistance heating or electromagnetic chucking or both. The eth resistant coating has a plurality of regions made from materials having different electrical volume resistivities, such that the overall coating has a bulk resistivity that can be tailored by varying the relative size of each region. L'invention porte sur un article avec un revêtement résistant à la gravure. L'article est un élément chauffant, un support de tranche ou un mandrin électrostatique. L'article a un substrat de base fait d'une céramique ou d'un autre matériau, et a en outre une ou plusieurs électrodes pour un chauffage par résistance ou un mandrinage électromagnétique ou les deux. Le revêtement résistant à la gravure a une pluralité de régions faites de matériaux ayant différentes résistivités de volume électrique, de telle sorte que le revêtement global a une résistivité massive qui peut être personnalisée par variation de la dimension relative de chaque région.