SHOWERHEAD AND SHADOW FRAME

The present invention generally relates to a gas distribution showerhead and a shadow frame for an apparatus. By extending the corners of the gas distribution showerhead the electrode area may be expanded relative to the anode and thus, uniform film properties may be obtained. Additionally, the expanded corners of the gas distribution showerhead may have gas passages extending therethrough. In one embodiment, hollow cathode cavities may be present on the bottom surface of the showerhead without permitting gas to pass therethrough. The shadow frame in the apparatus may also have its corner areas extended out to enlarge the anode in the corner areas of the substrate being processed and thus, may lead to deposition of a material on the substrate having substantially uniform properties. La présente invention porte d'une manière générale sur une pomme de douche de distribution de gaz et sur un cadre de masquage pour un appareil. Par l'extension des coins de la pomme de douche de distribution de gaz, la surface d'électrode peut être étendue par rapport à l'anode et ainsi, des propriétés de film uniformes peuvent être obtenues. De plus, les coins étendus de la pomme de douche de distribution de gaz peuvent avoir des passages de gaz s'étendant à travers ceux-ci. Dans un mode de réalisation, des cavités de cathode creuses peuvent être présentes sur la surface inférieure de la pomme de douche, sans permettre au gaz de passer à travers ceux-ci. Le cadre de masquage dans l'appareil peut également avoir ses surfaces de coin étendues vers l'extérieur pour agrandir l'anode dans les zones de coin du substrat qui est traité et ainsi, peut conduire à un dépôt d'un matériau sur le substrat ayant des propriétés sensiblement uniformes.