INCREASING CURRENT IN CHARGED PARTICLE SOURCES AND SYSTEMS
Disclosed are charged particle systems that include a tip (504), at least one gas inlet (512a-f) configured to supply gas particles to the tip, and a element (506) having a curved surface (514) positioned to adsorb un-ionized gas particles (182a-d), and to direct desorbing gas particles to propagate...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Disclosed are charged particle systems that include a tip (504), at least one gas inlet (512a-f) configured to supply gas particles to the tip, and a element (506) having a curved surface (514) positioned to adsorb un-ionized gas particles (182a-d), and to direct desorbing gas particles to propagate toward the tip. The charged particle systems can include a field shunt connected to the tip, and configured to adjust an electric field at an apex of the tip.
L'invention concerne des systèmes de particules chargées qui comprennent une pointe, au moins une entrée de gaz conçue pour envoyer des particules de gaz vers la pointe, et un élément à surface courbe disposé de manière à adsorber des particules de gaz non ionisées et à diriger les particules de gaz de désorption de sorte qu'elles se propagent vers la pointe. Les systèmes de particules chargées peuvent comprendre un shunt de champ connecté à la pointe et conçu pour ajuster un champ électrique au sommet de la pointe. |
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