METHODS AND APPARATUS FOR ABATING ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING PROCESS EFFLUENT

A thermal abatement system is provided, including: a thermal abatement reactor; an inlet in fluid communication with the reactor; a process chamber in fluid communication with the inlet; a first sheathing fluid source in fluid communication with the inlet; a first flow control device, adapted to reg...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: HOOSHDARAN, FRANK, F, FOX, ALLEN, CLARK, DANIEL, O, FLIPPO, BELYNDA
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A thermal abatement system is provided, including: a thermal abatement reactor; an inlet in fluid communication with the reactor; a process chamber in fluid communication with the inlet; a first sheathing fluid source in fluid communication with the inlet; a first flow control device, adapted to regulate a flow of a first sheathing fluid from the first sheathing fluid source; and a controller, in signal communication with the first flow control device, adapted to regulate the sheathing fluid by operating the first flow control device; wherein the inlet is adapted to receive an effluent stream from the process chamber and the first sheathing fluid from the first sheathing fluid source, to sheathe the effluent stream with the first sheathing fluid to form a sheathed effluent stream, and to introduce the sheathed effluent stream into the reactor. L'invention porte sur un système de réduction thermique comprenant : un réacteur de réduction thermique ; une entrée en communication de fluide avec le réacteur ; une chambre de traitement en communication de fluide avec l'entrée ; une première source de fluide de gainage en communication de fluide avec l'entrée ; un premier dispositif de commande d'écoulement, apte à réguler un écoulement d'un premier fluide de gainage provenant de la première source de fluide de gainage ; et un dispositif de commande, en communication de signal avec le premier dispositif de commande d'écoulement, apte à réguler le fluide de gainage par actionnement du premier dispositif de commande d'écoulement ; l'entrée étant apte à recevoir un courant d'effluent provenant de la chambre de traitement et le premier fluide de gainage provenant de la première source de fluide de gainage, pour gainer le courant d'effluent avec le premier fluide de gainage afin de former un courant d'effluent gainé, et d'introduire le courant d'effluent gainé dans le réacteur.