METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING BEAM CURRENT UNIFORMITY IN AN ION IMPLANTER

An electrode assembly for use with an ion source chamber or as part of an ion implanter processing system to provide a uniform ion beam profile. The electrode assembly includes an electrode having an extraction slot with length L aligned with an aperture of the ion source chamber for extracting an ion beam. The electrode includes a plurality of segments partitioned within the length of the extraction slot where each of the segments is configured to be displaced in at least one direction with respect to the ion beam. A plurality of actuators are connected to the plurality of electrode segments for displacing one or more of the segments. By displacing at least one of the plurality of electrode segments, the current density of a portion of the ion beam corresponding to the position of the segment within the extraction slot is modified to provide a uniform current density beam profile associated with the extracted ion beam. L'invention concerne un ensemble d'électrodes à utiliser avec une chambre de source ionique ou en tant que partie d'un système de traitement d'implanteur ionique pour fournir un profil de faisceau ionique uniforme. L'ensemble d'électrodes comprend une électrode comprenant une fente d'extraction de longueur L alignée sur une ouverture de la chambre de source ionique pour extraire un faisceau ionique. L'électrode comprend une pluralité de segments séparés à l'intérieur de la longueur de la fente d'extraction; chaque segment étant conçu pour être déplacé dans au moins une direction par rapport au faisceau ionique. Une pluralité d'actionneurs sont connectés à la pluralité de segments d'électrode pour déplacer un ou plusieurs des segments. Par déplacement d'au moins un segment d'électrode faisant partie de la pluralité de segments d'électrode, la densité de courant d'une partie du faisceau ionique correspondant à la position du segment à l'intérieur de la fente d'extraction est modifiée afin d'obtenir un profil de faisceau à densité de courant uniforme associé au faisceau ionique extrait.