A TWIN INTERNAL ION SOURCE FOR PARTICLE BEAM PRODUCTION WITH A CYCLOTRON

The present invention relates to a cyclotron comprising two internal ion sources (1,2) for the production of the same particles. The second ion source can be used as a spare ion source which strongly increases the uptime and the reliability of the cyclotron and reduces the maintenance interventions. Advantageously, the cyclotron is further characterized by an optimized close geometry of the different elements within the central region of the cyclotron. The cyclotron of the invention may be further characterized by an adaptation and optimization of the shape of first and second internal ion source to avoid particle losses during the first turn of acceleration. The cyclotron may be further characterized by an adaptation and optimization of the shape of the counter-Dee electrode assembly (4) and possibly the Dee-electrode assembly in order to improve the acceleration field in-between the gaps (5). L'invention concerne un cyclotron comprenant deux sources ioniques internes (1, 2) pour la production de particules. La seconde source ionique peut être utilisée comme source ionique de réserve qui augmente fortement la durée de service et la stabilité du cyclotron et réduit les interventions de maintenance. De manière avantageuse, le cyclotron est en outre caractérisé par une géométrie fermée optimisée des différents éléments dans la région centrale du cyclotron. Le cyclotron de l'invention peut être en outre caractérisé par une adaptation et une optimisation de la forme des première et seconde sources ioniques internes pour éviter des pertes de particules lors du premier tour d'accélération. Le cyclotron peut être en outre caractérisé par une adaptation et une optimisation de la forme de l'ensemble contre-électrode en D (4) et éventuellement de l'ensemble électrode en D afin d'améliorer le champ d'accélération entre les trous (5).