BASE MATERIAL FOR PREPARING A STENCIL FOR SCREEN PRINTING

The invention relates to a base material (10) for preparing a stencil (30) for screen printing, wherein the base material (10) comprises a screen (12) comprising a network of dykes (20) delimiting openings (22), a photoresist material covering at least one side of the screen (12) as a layer (14), a...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KOETSIER, ARNOLD, ANTONY, EVERAARS, MARCEL, DIALMA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY LINING MACHINES MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING,INKING, DAMPING, OR THE LIKE MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM PRINTING PRINTING PLATES OR FOILS PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTINGSURFACES STAMPS TRANSPORTING TYPEWRITERS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The invention relates to a base material (10) for preparing a stencil (30) for screen printing, wherein the base material (10) comprises a screen (12) comprising a network of dykes (20) delimiting openings (22), a photoresist material covering at least one side of the screen (12) as a layer (14), a levelling film (16) contacting the photoresist material at said side, and a mask layer (18) on top of the levelling film (16), the mask layer (18) comprising a laser ablatable material that is opaque to the light used for exposing the photoresist material. L'invention porte sur une matière de base (10) pour la préparation d'un stencil (30) pour la sérigraphie, la matière de base (10) comprenant un cadre (12) comprenant un réseau de digues (20) délimitant des ouvertures (22), une matière de photorésist recouvrant au moins un côté du cadre (12) sous forme d'une couche (14), un film de nivellement (16) en contact avec la matière de photorésist au niveau dudit côté et une matière de masque (18) par-dessus le film de nivellement (16), la couche de masque (18) comprenant une matière pouvant être ôtée par laser qui est opaque vis-à-vis de la lumière utilisée pour exposer la matière de photorésist.