RAPID EXCHANGE DEVICE FOR LITHOGRAPHY RETICLES

Provided is a method and apparatus for moving and exchanging reticles within a vacuum lithographic system with minimum particle generation and outgassing. In an example of the method, a first arm of a rotational exchange device (RED) receives a first baseplate holding a first reticle. A second arm o...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HARROLD, GEORGE, HILARY, LANSBERGEN, ROBERT, GABRIEL, MARIA, JOHNSON, RICHARD, JOHN, VAN DER WEIJDEN, HUGO, JACOBUS, GERARDUS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Provided is a method and apparatus for moving and exchanging reticles within a vacuum lithographic system with minimum particle generation and outgassing. In an example of the method, a first arm of a rotational exchange device (RED) receives a first baseplate holding a first reticle. A second arm of the RED supports and buffers a second baseplate. The first and second baseplates are located substantially equidistant from an axis of rotation of the RED. L'invention porte sur un procédé et un appareillage destinés à déplacer et remplacer des réticules dans un système lithographique sous vide, avec une production minimale de particules et un dégagement minimal de gaz. Dans un exemple du procédé, un premier bras d'un dispositif de remplacement par rotation (RED) reçoit une première plaque de base soutenant un premier réticule. Un deuxième bras du dispositif RED soutient et tamponne une deuxième plaque de base. Les première et deuxième plaques de base sont situées sensiblement à distance égale d'un axe de rotation du dispositif RED.