DEVICE AND METHOD FOR QUANTIFYING A SURFACE'S CLEANLINESS

Provided are devices and methods for quantifying a surface's cleanliness relative to a contaminant. Such devices and methods may comprising and use a source of interrogating radiation to which the contaminant is responsive, a means for directing the interrogating radiation, a detector, and an analyzer. Radiation emitted from the source is directed by the radiation means toward the surface or a surface cleaner that may hold the contaminant. The detector detects radiation from the surface or the surface cleaner produced in response to the interrogating radiation by the contaminant, e.g., fluorescent or phosphorescent radiation, and generate a corresponding signal that is compared by the analyzer relative to an electronic standard that corresponds to the surface in an acceptably clean state so as to quantify the surface's cleanliness. La présente invention concerne des dispositifs et des procédés pour quantifier la propreté d'une surface par rapport à un contaminant. Ces dispositifs et ces procédés peuvent comprendre et utiliser une source de rayonnement d'interrogation à laquelle le contaminant répond, des moyens pour diriger le rayonnement d'interrogation, un détecteur, et un analyseur. Le rayonnement émis à partir de la source est dirigé par les moyens de rayonnement vers la surface ou un nettoyant de surface qui peut contenir le contaminant. Le détecteur détecte le rayonnement provenant de la surface ou du nettoyant de surface, qui est produit en réponse au rayonnement d'interrogation par le contaminant, et qui peut être un rayonnement fluorescent ou phosphorescent par exemple. Le détecteur génère un signal correspondant qui est comparé par un analyseur à un standard électronique qui correspond à la surface dans un état de propreté acceptable, ce qui permet de quantifier la propreté de la surface.