MILLISECOND ANNEALING (DSA) EDGE PROTECTION

A method and apparatus for thermally processing a substrate is provided. A substrate is disposed within a processing chamber configured for thermal processing by directing electromagnetic energy toward a surface of the substrate. An energy blocker is provided to block at least a portion of the energ...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LERNER, ALEXANDER N, YUDOVSKY, JOSEPH, MAYUR, ABHILASH J, MCINTOSH, ROBERT C, LARMAGNAC, DAVID D. L, KOELMEL, BLAKE
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method and apparatus for thermally processing a substrate is provided. A substrate is disposed within a processing chamber configured for thermal processing by directing electromagnetic energy toward a surface of the substrate. An energy blocker is provided to block at least a portion of the energy directed toward the substrate. The blocker prevents damage to the substrate from thermal stresses as the incident energy approaches an edge of the substrate. L'invention concerne un procédé et un appareil pour traiter thermiquement un substrat. Un substrat est disposé dans une chambre de traitement configurée pour un traitement thermique par direction d'énergie électromagnétique vers une surface du substrat. Un bloqueur d'énergie est prévu pour bloquer au moins une partie de l'énergie dirigée vers le substrat. Le bloqueur empêche un endommagement du substrat en raison des contraintes thermiques lorsque l'énergie incidente se rapproche d'un bord du substrat.