NANOFILM PROTECTIVE AND RELEASE MATRICES

A modified atomic plasma deposition (APD) procedure is used to produce amorphous, nonconformal thin metal film coatings on a variety of substrates. The films are porous, mesh- like lattices with imperfections such as pinholes and pores, which are useful as scaffolds for cell attachment, controlled r...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KITCHELL, BARBARA, S, MILLER, TIFFANY, E, STOREY, DANIEL, M
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A modified atomic plasma deposition (APD) procedure is used to produce amorphous, nonconformal thin metal film coatings on a variety of substrates. The films are porous, mesh- like lattices with imperfections such as pinholes and pores, which are useful as scaffolds for cell attachment, controlled release of bioactive agents and protective coatings. L'invention concerne l'utilisation d'un procédé modifié de dépôt atomique par plasma (APD) pour produire sur différents substrats des revêtements amorphes en film métallique mince qui ne suivent pas la surface du substrat. Les films sont des treillis poreux de type en filet qui présentent des imperfections telles que des trous et des pores et qui peuvent être utilisés comme supports de fixation de cellules, pour la libération contrôlée d'agents bioactifs et comme revêtements protecteurs.