FOLDED OPTICAL ENCODER AND APPLICATIONS FOR SAME
A system and method are used to determine a parameter (e.g., angle, position, orientation, etc.) of a device. A first portion includes a source of radiation configured to produce a beam of radiation that is directed to be reflected from a reflective portion of the device. A second portion is coupled...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A system and method are used to determine a parameter (e.g., angle, position, orientation, etc.) of a device. A first portion includes a source of radiation configured to produce a beam of radiation that is directed to be reflected from a reflective portion of the device. A second portion is coupled to the first portion and includes a measurement device and, optionally, a detector, such that the reflected beam transmits through the measurement device onto the detector. The parameter of the device is determined based on the interaction of the reflected beam and the measurement device. In one example, the first and second portions can form a folded optical encoder that measures an angle of a scanning mirror or a position or orientation of a stage within a lithography apparatus.
Un système et un procédé sont utilisés pour déterminer un paramètre (par exemple, un angle, une position, une orientation, etc.) d'un dispositif. Une première partie comprend une source de rayonnement configurée pour produire un faisceau de rayonnement qui est dirigé pour être réfléchi par une partie de réflexion du dispositif. Une seconde partie est couplée à la première partie et comprend un dispositif de mesure et, éventuellement, un détecteur, de sorte que le faisceau réfléchi est transmis par l'intermédiaire du dispositif de mesure sur le détecteur. Le paramètre du dispositif est déterminé sur la base de l'interaction du faisceau réfléchi et du dispositif de mesure. Dans un exemple, les première et seconde parties peuvent former un encodeur optique replié qui mesure un angle d'un miroir de balayage ou une position ou une orientation d'un étage dans un appareil de lithographie. |
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