COMPOSITION FOR SURFACE ANTIREFLECTION FILMS AND PATTERN-MAKING METHOD

A composition for surface antireflection films, which has favorable coating properties for various resist materials, enables in a reduced dropping amount the formation of an excellent surface antireflection film suffering no problem in PED, standing wave effect or multiple reflection effect and caus...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	AKIYAMA, YASUSHI, OHTAGURO, TSUNEYUKI, TAKANO, YUSUKE, KOISO, AKIHIRO, NOYA, GO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; jpn
Schlagworte:	ADHESIVES APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS COMPOSITIONS BASED THEREON COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS CORRECTING FLUIDS DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY FILLING PASTES HOLOGRAPHY INKS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHES SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A composition for surface antireflection films, which has favorable coating properties for various resist materials, enables in a reduced dropping amount the formation of an excellent surface antireflection film suffering no problem in PED, standing wave effect or multiple reflection effect and causes no coating failure even on an uneven substrate, comprising: (A) a fluorine-containing compound represented by the following general formula (I); (B) at least one member selected from among amino alcohols, hydrocarbon group-containing amines, aromatic amines, ammonium hydroxides, polyalkylene amines, nitrogen-containing heterocyclic compounds and amine derivatives having the hydroxyl group thereof; and (C) a water-soluble polymer. By dropping a definite amount of this composition for surface antireflection films to a photoresist film of various types such as a chemically amplified resist and then coating by, for example, the spin coat method, a surface antireflection film is formed; wherein Rf represents a straight-chain or branched alkyl group having been partially or entirely fluorinated; and m represents an integer of from 0 to 10. L'invention concerne une composition pour des films antireflets de surface, qui a des propriétés de revêtement favorables pour divers matériaux d'enduit protecteur, permet dans une quantité de dépôt réduite la formation d'un film antireflet de surface excellent, ne souffrant d'aucun problème de PED, d'effet d'onde stationnaire ou d'effet de réflexions multiples et ne provoque aucun échec de revêtement, même sur un substrat irrégulier, comprenant : (A) un composé contenant du fluor représenté par la formule générale suivante (I); (B) au moins un élément choisi parmi des amino-alcools, des amines contenant un groupe hydrocarboné, des amines aromatiques, des hydroxydes d'ammonium, des polyalkylènes d'amines, des composés hétérocycliques contenant de l'azote et des dérivés aminés ayant le groupe hydroxyle de ceux-ci; et (C) un polymère soluble dans l'eau. Par dépôt d'une quantité définie de cette composition pour des films antireflets de surface sur un film de photorésine de divers types, tel qu'un enduit protecteur chimiquement amplifié, puis par revêtement, par exemple, par le procédé de dépôt par centrifugation, un film antireflet de surface est formé. (I) dans laquelle Rf représente un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant été partiellement ou entièrement fluoré; et m représente un entier de 0 à 10.