SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATIC ELIMINATION OF DESIGN RULE VIOLATIONS DURING CONSTRUCTION OF A MASK LAYOUT BLOCK

A system and method for automatic elimination of design rule violations during construction of a mask layout block are disclosed. The method includes analyzing a selected position for a polygon in a mask layout block and obtaining one or more design rules associated with the polygon from a technology file. The method provides an Advise Area associated with the selected position for the polygon that graphically represents space, enclosure, width, notch or any other topological condition in the mask layout block where the selected position complies with the design rule violation. The Advice Area is associated with the selected position to alert the mask designer about any process design rule violation. The method and system also provides an option to automatically correct the identified process design rule, maintaining the process design rules (DRC Clean), layout connectivity (LVS Clean), Circuit Timing constraints and DFM (Design for Manufacturing) correctness. L'invention concerne un système et un procédé pour éliminer automatiquement des violations de règles de conception pendant la construction d'un bloc d'agencement de masque. Le procédé comprend l'analyse d'une position sélectionnée pour un polygone dans un bloc d'agencement de masque et l'obtention d'une ou de plusieurs règles de conception associées au polygone à partir d'un fichier technologique. Le procédé fournit une zone de conseil associée à la position sélectionnée pour le polygone qui représente graphiquement un espace, un cadre, une largeur, une encoche ou n'importe quelle autre condition topologique dans le bloc d'agencement de masque où la position sélectionnée correspond à la violation de règles de conception. La zone de conseil est associée à la position sélectionnée pour avertir le concepteur de masque de toute violation de règles de conception de processus. Le procédé et le système fournissent également une option pour corriger automatiquement la règle de conception de processus identifiée, maintenant l'exactitude des règles de conception de processus (DTC Clean), la connectivité d'agencement (LVS Clean), les contraintes de synchronisation de circuit et la DFM (conception pour fabrication).