APPARATUS AND METHOD FOR WAFER EDGE EXCLUSION MEASUREMENT

A substrate illumination and inspection system provides for illuminating and inspecting a substrate particularly the substrate edge. The system uses a light diffuser with a plurality of lights disposed at its exterior or interior for providing uniform diffuse illumination of a substrate. An optic and imaging system exterior of the light diffuser are used to inspect the plurality of surfaces of the substrate including specular surfaces. An automatic defect characterization processor is provided. La présente invention concerne un système d'illumination et de contrôle d'un substrat permettant l'illumination et le contrôle d'un substrat et, en particulier, du bord du substrat. Le système a recours à un diffuseur de lumière comportant une pluralité de lampes disposées à l'extérieur ou à l'intérieur de celui-ci afin d'assurer un éclairage diffus homogène d'un substrat. Des systèmes optiques et d'imagerie extérieurs au diffuseur de lumière sont utilisés pour contrôler la pluralité de surfaces du substrat, dont les surfaces spéculaires. L'invention concerne également un processeur de caractérisation des défauts automatique.