APPARATUS AND METHOD FOR WAFER EDGE DEFECTS DETECTION

A substrate illumination and inspection system provides for illuminating and inspecting a substrate particularly the substrate edge. The system a image processor to automatically detect and characterize defects on the wafer's edge. La présente invention a pour objet un système d'éclairage...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VERMA, VISHAL, HUANG, ZHIYAN, ROBBINS, MICHAEL D, JIN, JU, SADAM, SATISH, LIN, SIMING, FORDERHASE, PAUL F
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A substrate illumination and inspection system provides for illuminating and inspecting a substrate particularly the substrate edge. The system a image processor to automatically detect and characterize defects on the wafer's edge. La présente invention a pour objet un système d'éclairage et d'inspection d'un substrat qui permet d'éclairer et d'inspecter un substrat, particulièrement le bord d'un substrat. Le système comprend un processeur d'images pour détecter et caractériser automatiquement les défauts sur le bord de la tranche.