METHOD AND APPARATUS FOR SELECTIVELY PATTERNING FREE STANDING QUANTOM DOT (FSQDT) POLYMER COMPOSITES

Free standing quantum do (FSQDT) polymer composites and a method and apparatus for patterning the FSQDT polymer composites is provided. The method for patterning the FSQDT polymer composites includes creating a solution including FSQDTs (102) where each of the FSQDTs has a plurality of reactive ligands chemically attached thereto. The method further includes providing a substrate (104), forming a coated substrate by coating a surface of the substrate with a layer of the solution (106), and providing a photo mask having a predetermined pattern thereon transparent to a predetermined radiation over the coated substrate (108). Finally, the method includes exposing a portion of the coated substrate to the predetermined radiation passing through the mask to pattern a polymer matrix in the predetermined pattern while adhering the FSQDTs to the polymer matrix (110) to form the FSQDT polymer composite. Cette invention se rapporte à des composites polymères à points quantiques indépendants (FSQDT) ainsi qu'à un procédé et à un appareil de structuration des composites polymères FSQDT. Le procédé de structuration des composites polymères FSQDT comprend la création d'une solution comprenant des FSQDT (102) où chacun des FSQDT comporte une pluralité de ligands réactifs qui y sont chimiquement liés. Le procédé comprend en outre la mise en place d'un substrat (104), la formation d'un substrat recouvert en recouvrant une surface du substrat d'une couche de la solution (106), et la mise en place sur le substrat recouvert (108) d'un photomasque sur lequel se trouve un motif prédéterminé transparent à un rayonnement prédéterminé. Enfin, le procédé comprend l'exposition d'une partie du substrat recouvert au rayonnement prédéterminé traversant le masque pour structurer une matrice polymère dans le motif prédéterminé tout en faisant adhérer les FSQDT à la matrice polymère (110) afin de former le composite polymère FSQDT.