DEVICE FOR THE TREATMENT OF SURFACES WITH A PLASMA GENERATED BY AN ELECTRODE OVER A SOLID DIELECTRIC VIA A DIELECTRICALLY IMPEDED GAS DISCHARGE

Erfindungsgemäß wird bereitgestellt eine Vorrichtung zur Behandlung von Oberflächen mit einem mittels einer Elektrode (1) über ein Feststoff -Dielektrikum (3) durch eine dielektrisch behinderte Gasentladung erzeugten Plasma (2), wobei die Vorrichtung eine Wirk-Oberflache (4) aufweist, die während de...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KAEMLING, CINDY, WANDKE, DIRK, KAEMLING, ANDY
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Erfindungsgemäß wird bereitgestellt eine Vorrichtung zur Behandlung von Oberflächen mit einem mittels einer Elektrode (1) über ein Feststoff -Dielektrikum (3) durch eine dielektrisch behinderte Gasentladung erzeugten Plasma (2), wobei die Vorrichtung eine Wirk-Oberflache (4) aufweist, die während der Behandlung unmittelbar an das Plasma (2) angrenzt, wobei die Wirk-Oberflache reversibel formveränderbar ist. The invention relates to a device for treatment of surfaces with a plasma (2) generated by an electrode (1) over a solid dielectric (3) via a dielectrically impeded gas discharge, wherein the device has an effective surface (4) which is immediately adjacent to the plasma (2) during the treatment, wherein the form of the effective surface can be reversibly changed. L'invention concerne un dispositif pour le traitement de surfaces à l'aide d'un plasma (2) généré au moyen d'une électrode (1) par une décharge de gaz à barrière diélectrique par le biais d'un diélectrique solide (3). Le dispositif selon l'invention présente une surface active (4) qui est directement adjacente au plasma (2) pendant le traitement, la forme de la surface active étant modifiable de manière réversible.