SUBSTRATE AND NEGATIVE IMAGING METHOD FOR PROVIDING TRANSPARENT CONDUCTING PATTERNS
Provided are processes for making a transparent conducting pattern. The invention is also directed to electronic devices containing such transparent conducting patterns. Further provided is a substrate comprising a base film and a transparent conducting layer disposed on the base film; wherein the s...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Provided are processes for making a transparent conducting pattern. The invention is also directed to electronic devices containing such transparent conducting patterns. Further provided is a substrate comprising a base film and a transparent conducting layer disposed on the base film; wherein the substrate has an OD of about 0.1 to 0.6 at 830 nm, and the transparent conducting layer comprises polyethylene dioxythiophene and has an OD of less than 0.1 in the range of 400 to 700 nm.
L'invention propose des procédés pour créer une configuration de conducteur transparente. L'invention concerne également des dispositifs électroniques contenant de telles configurations de conducteurs transparentes. En outre, l'invention propose un substrat comportant un film de base et une couche de conducteur transparente disposée sur le film de base ; le substrat ayant un OD d'environ 0,1 à 0,6 à 830 nm, et la couche de conducteur transparente comportant du dioxythiophène de polyéthylène, et ayant un OD inférieur à 0,1, dans la plage de 400 à 700 nm. |
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