SYSTEMS AND METHODS FOR A THIN FILM CAPACITOR HAVING A COMPOSITE HIGH-K THIN FILM STACK
Systems and methods are provided for fabricating a thin film capacitor involving depositing an electrode layer of conductive material on top of a substrate material, depositing a first layer of ferroelectric material on top of the substrate material using a metal organic deposition or chemical solut...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Systems and methods are provided for fabricating a thin film capacitor involving depositing an electrode layer of conductive material on top of a substrate material, depositing a first layer of ferroelectric material on top of the substrate material using a metal organic deposition or chemical solution deposition process, depositing a second layer of ferroelectric material on top of the first layer using a high temperature sputter process and depositing a metal interconnect layer to provide electric connections to layers of the capacitor.
L'invention propose des systèmes et des procédés pour fabriquer un condensateur à films minces mettant en jeu le dépôt d'une couche d'électrode d'un matériau conducteur sur le dessus d'un matériau de substrat, le dépôt d'une première couche de matériau ferroélectrique sur le dessus du matériau de substrat à l'aide d'un procédé de dépôt organométallique ou de dépôt de solution chimique, le dépôt d'une seconde couche de matériau ferroélectrique sur le dessus de la première couche à l'aide d'un procédé de pulvérisation cathodique haute température et le dépôt d'une couche d'interconnexion métallique pour fournir des connexions électriques aux couches du condensateur. |
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